大理石抛光工艺流程：1. 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛*、砂纸等，以手工*作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被*表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。2. 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的*。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。3. 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步： (1) 宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。 (2) 微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，Ra
1.粗磨、在粗磨的时候,我们要求磨片的吃*量深、磨削的效率要高,磨削的纹路比较粗,磨出的表面比较粗糙,这个主要的作用是清楚大理石在前道工序中留下的锯片痕迹并且将石材的平整,造型面磨削到位。 2.细磨,细磨后的大理石表面的花纹、颗粒、颜色等已经清楚的显示出来了,而且表面比较细腻、光滑,而且细磨后的大理石开始有了微弱的光泽度。 3.精磨的大理石便面没有*眼可见的痕迹,而且表面会越来越光滑,光着度最高可以达到55度以上。 4.我们在做了前面几个步骤后,我们用大理石专用的抛光机,从50-3000号的石材水磨片由粗到细对大理石进行研磨,这样可以使地面的光亮平整如新,经过抛光研磨后的大理石表面很明亮,大理石的光着度可以达到85度以上。 希望对你有所帮助
